[实用新型]一种刻蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种湿法刻蚀装置，包括刻蚀装置本体、硅基体、气压腔，在刻蚀装置本体上设有红外吸收区、框架、刻蚀开口、硅基体、热电堆、支撑臂、刻蚀装置本体、刻蚀仓、防护玻璃、控制箱、报警指示灯、喷嘴、气压腔、酸液腔、喷头、定位器、导液管，在气压腔与酸液腔之间设有通气导管，气压腔通过通气导管向酸液腔内进行加压，使酸液从喷头喷出的时候具有一定的压力，同时使酸液能够准确无误的喷洒到硅基体上，将不需要的部分通过与酸液反应后形成酸液水排出，留下剩下的部分就是反应后我们所要得到的单晶硅片。

主权项

一种刻蚀装置,包括刻蚀装置本体（7）、硅基体（4）和气压腔（13），其特征在于：所述刻蚀装置本体（7）的侧面顶部设有报警指示灯（11），所述刻蚀装置本体（7）的下方设有控制箱（10），控制箱（10）的内部设有内置电路（18），所述控制箱（10）的内部设有刻蚀仓（8），刻蚀仓（8）的顶部设有多个喷嘴（12），所述喷嘴（12）的正下方设有硅基体（4）。