[实用新型]一种光学元件制备过程中的拉拔力检测装置有效
申请号: | 201720172174.5 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN206832387U | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 段美华 | 申请(专利权)人: | 希比希光学(北京)有限公司 |
主分类号: | G01L5/00 | 分类号: | G01L5/00;G01M11/08;G01B21/32 |
代理公司: | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人: | 毛燕生 |
地址: | 101400 北京市怀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种光学元件制备过程中的拉拔力检测装置,该检测装置包括压力机和与压力机固定连接的测力单元,压力机的底座上固定有基板,桶形保持器设置在所述基板上并位于所述测力单元正下方。本申请的检测装置操作简单,测量准确并且可以输出测量数据。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 元件 制备 过程 中的 拉拔 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种光学元件制备过程中的拉拔力检测装置,该检测装置包括压力机和与压力机固定连接的测力单元,压力机的底座上固定有基板,桶形保持器设置在所述基板上并位于所述测力单元正下方。
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