[实用新型]湿法面接触柔性高效抛光机

摘要

本实用新型公开了一种湿法面接触柔性高效抛光机，包括机架，所述机架设有磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括磨头支架；主轴；公转盘；公转电机；磨具模组，其包括磨具中轴、磨具基座、虚实结合弹性体和水磨碟；所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘下方注出；所述机架上还设有输送模块。通过合理配置磨抛生产线上的各个机构，从而实现陶瓷石材的湿法面接触柔性高效抛光工序，使得磨块与工件表面一直保持面接触状态，有效提高加工效率，避免形成波纹面，相应地，减少加工单位时间也起到了节约用水的效果。磨抛生产线上的输送皮带稳定、不走偏，依托免修正耐磨底板能够贴合工件表面，降低损件率。

主权项

湿法面接触柔性高效抛光机，包括具有机台面的机架，其特征在于：所述机架的机台面上设有：磨抛模块，其包括环流磨机构及加水机构，所述环流磨机构包括：磨头支架（11），其跨设在机架上；主轴（12），其竖直穿过磨头支架（11）；公转盘（13），其平放且中间位置与所述主轴（12）的下段连接，公转盘（13）设有出水口，且公转盘（13）靠近边缘处设有若干个磨具模组安装位；公转电机，其安装在主轴（12）上段，通过带传动驱动主轴（12）旋转；磨具模组，其包括相应地竖立安装在所述磨具模组安装位上的磨具中轴，磨具中轴下端设有磨具基座，与磨具基座下部连接的虚实结合弹性体，以及位于虚实结合弹性体下方的水磨碟，所述虚实结合弹性体是弹性软垫构件，其具有当虚实结合弹性体弹性变形时能提供进退活动空间的虚位，所述水磨碟为圆形的碟片，所述碟片上以同心圆的结构设有若干圈打磨层，所述打磨层包括间隔设置的磨块和排屑槽，所述碟片上每一圈打磨层的磨块的数量相等，外一圈打磨层的磨块前端嵌入内一圈打磨层的排屑槽，外一圈打磨层的磨块与内一圈打磨层的磨块之间留有缝隙，且所述磨块为前窄后宽的流线型构件；所述加水机构将外设的水源引至所述出水口往公转盘（13）下方注出；所述机架上还设有：输送模块，其包括：输送皮带（3），其为闭环，可回转地设置在机台面的上部和下部，所述磨抛模块位于输送皮带（3）的上表面上方；免修正耐磨底板，其平放地安装在机台面上，输送皮带（3）的下表面对着所述免修正耐磨底板的上板面，免修正耐磨底板包括耐磨陶瓷块和整体平整的基板，所述耐磨陶瓷块紧密排列成耐磨陶瓷块板组，耐磨陶瓷块板组背面与所述基板正面之间通过粘结剂压合，所述基板上布有多个贯穿基板的溢流孔，粘结剂部分地漫溢入溢流孔内，所述基板是拉伸网板或冲孔网板。