[实用新型]一种电镀装置有效
申请号: | 201720206401.1 | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN207031580U | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 李怀胜;农春强 | 申请(专利权)人: | 永州锦络电子有限公司 |
主分类号: | C25D15/00 | 分类号: | C25D15/00;C25D21/10 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 425000 湖南省永州*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电镀装置,包括均质槽,所述均质槽内设置有搅拌棒;电镀槽,邻接于所述均质槽,包括马达,设置在所述电镀槽的上部区域,用以转动试片;止档件,设置在所述电镀槽的下部区域,用以止档金属块;电场整流遮板,设置在所述马达与止挡件之间,并设置有中间开孔,所述中间开孔的直径大于或等于所述试片的长度,所述电镀装置通过输送泵将所述均质槽内的物质送入所述电镀槽。本实用新型一种电镀装置设置为让均质槽在完成了均质作业之后,可以直接的将液体送到电镀槽内进行电镀,从而使的均质后的非金属材料可以在电镀制程中附着在试片上,避免了现有中运输均质液体的过程中产生沉积、结块的现象。 | ||
搜索关键词: | 一种 电镀 装置 | ||
【主权项】:
一种电镀装置,其特征在于,包括:均质槽,所述均质槽内设置有搅拌棒;电镀槽,邻接于所述均质槽,包括:马达,设置在所述电镀槽的上部区域,用以转动试片;止档件,设置在所述电镀槽的下部区域,用以止档金属块;电场整流遮板,设置在所述马达与止挡件之间,并设置有中间开孔,所述中间开孔的直径大于或等于所述试片的长度,所述电镀装置通过输送泵将所述均质槽内的物质送入所述电镀槽。
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