[实用新型]可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制备用反应釜有效

专利信息
申请号: 201720231905.9 申请日: 2017-03-10
公开(公告)号: CN206631597U 公开(公告)日: 2017-11-14
发明(设计)人: 初亚军;彭家建;刘春山;杨捷;李志刚;桑修申 申请(专利权)人: 新亚强硅化学股份有限公司
主分类号: B01J19/24 分类号: B01J19/24;B01J4/00;C07F7/10
代理公司: 南京众联专利代理有限公司32206 代理人: 张献祥
地址: 223809 江苏省宿*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制备用反应釜,其包括反应釜釜体;所述反应釜釜体之中设置有辅助入料管道,辅助入料管道内部设置有入料端体,入料端体之上设置有入料槽,其在入料端体的上端面以及下端面之间进行延伸;所述入料端体的下侧设置有调节端板,调节端板通过设置于入料端体轴线位置的步进电机进行驱动,调节端板在辅助入料管道径向上的面积大于入料端体之中入料槽的面积;上述可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制备用反应釜可基于反应釜内的物料反正状态以及反应环境以对于相关物料的入料速度以及流量进行实时调节,进而使得六甲基二硅氮烷的整体制备精度得以改善。
搜索关键词: 改善 加工 精度 甲基 二硅氮烷 制备 反应
【主权项】:
一种可改善加工精度的六甲基二硅氮烷制备用反应釜,其包括反应釜釜体;其特征在于,所述反应釜釜体之中设置有辅助入料管道,其延伸至反应釜釜体内部,辅助入料管道内部设置有入料端体,入料端体之上设置有入料槽,其在入料端体的上端面以及下端面之间进行延伸;所述入料端体的下侧设置有调节端板,调节端板的上端面贴合于入料端体的下端面进行延伸,调节端板通过设置于入料端体轴线位置的步进电机进行驱动,调节端板在辅助入料管道径向上的面积大于入料端体之中入料槽的面积。
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