[实用新型]一种升降机构及化学气相沉积装置有效
申请号: | 201720250121.0 | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN206706205U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 胡频升;吴海云 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L21/205 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李时云 |
地址: | 300385 天津市西青*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种升降机构及化学气相沉积装置,所述升降机构用于控制一托盘的上下高度调整,所述托盘位于一带有孔的基板之上,所述升降机构包括穿过所述孔的升降销、位于所述基板下方的升降板、以及在所述升降板下降时,对所述升降销产生一向下拉力的制动装置;采用所述升降机构的化学气相沉积装置。本实用新型提供的升降机构及化学气相沉积装置中在所述升降板下降时,所述升降销结合自由落体运动和所述制动装置的向下的拉力,可以确保所述升降销下降到原理的位置,有效的防止所述升降销和一晶圆托盘发生相互碰撞的风险,有效保护晶圆托盘,提高晶圆良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 升降 机构 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种升降机构,所述升降机构用于控制一托盘的上下高度调整,所述托盘位于一带有孔的基板之上,其特征在于,所述升降机构包括:升降销,所述升降销穿过所述孔;升降板,所述升降板位于所述基板的下方,当所述升降板上升时,所述升降板顶着所述升降销向上运动,所述托盘被所述升降销向上顶起;以及制动装置,所述制动装置在所述升降板下降时,对所述升降销产生一向下的拉力。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的