[实用新型]一种微波放大器件有效

专利信息
申请号: 201720260108.3 申请日: 2017-03-16
公开(公告)号: CN206834181U 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 蒋苓利;李涛;王宁;于洪宇;陈朗 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/788;H03F3/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司11332 代理人: 孟金喆,胡彬
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种微波放大器件,该微波放大器件包括匹配电路和微波放大电路,微波放大电路包括至少一个高电子迁移率晶体管,每个高电子迁移率晶体管包括衬底;位于衬底上的半导体层,其中,半导体层包括有源区,半导体层包括异质结构,异质界面形成二维电子气,栅区的半导体层上形成有凹槽,且凹槽下方半导体层的厚度大于满足增强型晶体管条件的厚度;位于半导体层上两端的源极和漏极,源极或漏极与微波放大电路输出端电连接;位于凹槽中的第一介质层;位于第一介质层上的浮栅;包覆浮栅和第一介质层的第二介质层;位于第二介质层上的控制栅,控制栅与匹配电路电连接。本实用新型提供了一种低噪声、高功率及高效率的微波放大器件。
搜索关键词: 一种 微波 放大 器件
【主权项】:
一种微波放大器件,其特征在于,包括匹配电路和微波放大电路,所述微波放大电路包括至少一个高电子迁移率晶体管,每个所述高电子迁移率晶体管包括:衬底;位于所述衬底上的半导体层,其中,所述半导体层包括有源区,所述有源区包括源区、漏区及源区与漏区之间的栅区,所述半导体层包括异质结构,异质界面形成二维电子气,所述栅区的半导体层上形成有凹槽,且所述凹槽下方半导体层的厚度大于满足增强型晶体管条件的厚度;位于所述半导体层上两端的源极和漏极,且所述源极位于所述源区上,所述漏极位于所述漏区上,所述源极或所述漏极与微波放大电路输出端电连接;位于所述凹槽中的第一介质层;位于所述第一介质层上的浮栅,用于存储电子,得到增强型高电子迁移率晶体管;包覆所述浮栅和所述第一介质层的第二介质层;位于所述第二介质层上的控制栅,所述控制栅与所述匹配电路电连接。
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