[实用新型]一种氧化法连续制备纳米SiO2的装置有效
申请号: | 201720261517.5 | 申请日: | 2017-03-17 |
公开(公告)号: | CN206590908U | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 彭兴东;张雪健;边迪;韩远昆;余东 | 申请(专利权)人: | 辽宁科技大学 |
主分类号: | C01B33/18 | 分类号: | C01B33/18;B82Y30/00 |
代理公司: | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司21107 | 代理人: | 周涛 |
地址: | 114051 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种纳米材料制备装置,特别是一种氧化法连续制备纳米SiO2的装置,包括加料熔炼系统,其特征在于加料熔炼系统上方通过烟气通道依次与废气放散系统和分级收集系统相连,废弃放散系统和分级收集系统之间设置有放散阀。本实用新型可以连续、大批量生产纳米SiO2微粉。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化 连续 制备 纳米 sio2 装置 | ||
【主权项】:
一种氧化法连续制备纳米SiO2的装置,包括加料熔炼系统,其特征在于:加料熔炼系统上方通过烟气通道依次与废气放散系统和分级收集系统相连,废弃放散系统和分级收集系统之间设置有放散阀。
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