[实用新型]一种四路ESD防护的TVS二极管有效
申请号: | 201720267537.3 | 申请日: | 2017-03-20 |
公开(公告)号: | CN206742246U | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
发明(设计)人: | 徐远;曹德祥 | 申请(专利权)人: | 苏州矽航半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人: | 董建林,胡益萍 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种四路ESD防护的TVS二极管,包括P+衬底;第一N型外延层,形成于P+衬底上;P+埋层区,形成于第一N型外延层中;第二N型外延层,形成于第一N型外延层上;N+埋层区,形成于第二N型外延层中并延伸至第一N型外延层中;至少一个P+注入区,形成于第二N型外延层中;至少一个第一N+注入区,形成于第二N型外延层中;多个沟槽,每个沟槽均穿过第二N型外延层并延伸至第一N型外延层中;氧化层,形成于第二N型外延层上;金属层,形成于所述氧化层上;背金层,形成于所述P+衬底背面。本实用新型采用集成式结构,成本低,节省空间,通过一个TVS二极管保护了四个I/O端口,任意I/O端口到地的电容均小于0.3pF,满足当代高速接口的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 四路 esd 防护 tvs 二极管 | ||
【主权项】:
一种四路ESD防护的TVS二极管,其特征在于,包括:P+衬底;第一N型外延层,形成于所述P+衬底上;P+埋层区,形成于所述第一N型外延层中;第二N型外延层,形成于所述第一N型外延层上;N+埋层区,形成于所述第二N型外延层中并延伸至所述第一N型外延层中;至少一个P+注入区,形成于所述第二N型外延层中;至少一个第一N+注入区,形成于所述第二N型外延层中;多个沟槽,每个所述沟槽均穿过所述第二N型外延层并延伸至所述第一N型外延层中;氧化层,形成于所述第二N型外延层上;金属层,形成于所述氧化层上;背金层,形成于所述P+衬底背面。
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