[实用新型]离子注入跑片机

摘要

本实用新型公开一种离子注入跑片机，包括水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区、单个托盘水平传送区和托盘垂直输送切换储存区，单个托盘水平传送区的中部设有离子注入工位，水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区和托盘垂直输送切换储存区的底部均设有真空发生装置，水平进出传送区内从上而下依次间隔设有五条可相互调节间距的水平皮带传送线。本实用新型离子注入的条件只需要在硅片托盘进出的真空度一致即可实现；该方法采用离子扩散的方式无法实现；本方法采用离子输入的方式，控制单种类型的离子逐一注入硅片上，可以通过调节离子注入设备的离子注入量和注入环境，使离子注入的效果更佳，制作成本更低。

主权项

一种离子注入跑片机，其特征在于，包括水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区、单个托盘水平传送区和托盘垂直输送切换储存区，所述单个托盘水平传送区的中部设有离子注入工位，所述水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区和托盘垂直输送切换储存区的底部均设有真空发生装置，所述水平进出传送区内从上而下依次间隔设有五条可相互调节间距的水平皮带传送线，五条水平皮带传送线同时输送五个硅片托盘，五个所述硅片托盘由一带脚轮的推车同时推入五条所述水平皮带传送线上；所述硅片托盘正向依次经过所述水平进出传送区、托盘垂直输送缓冲区、单个托盘水平传送区和托盘垂直输送切换储存区，在所述托盘垂直输送切换储存区进行离子注入孔切换动作后反向依次经过单个托盘水平传送区、托盘垂直输送缓冲区和所述水平进出传送区；所述硅片托盘正向经过离子注入工位时注入的离子与所述硅片托盘反向经过离子注入工位时注入的离子不同。