[实用新型]一种真空快速去除溶剂的装置有效
| 申请号： | 201720301381.6 | 申请日： | 2017-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN206570403U | 公开（公告）日： | 2017-10-20 |
| 发明（设计）人： | 曹晖;陈力;罗玉鑫;洪顶豪 | 申请（专利权）人： | 南京信息工程大学 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/24 |
| 代理公司： | 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙)32238 | 代理人： | 张立荣,吴扬帆 |
| 地址： | 210012 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型的真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，壳体设有一浅孔，浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，密封圈支撑于台阶上，密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，真空挡板阀通过与通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的侧壁上开设有排气孔，细管道通过与排气孔相连实现与真空腔室的连通。本实用新型的装置通过真空挡板阀和带有控制阀的细管道和真空腔室组成，结构简单，操作方便，实用性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 快速 去除 溶剂 装置 | ||
【主权项】：
一种真空快速去除溶剂的装置，可拆卸地与蒸镀设备连接，其特征在于包括壳体、密封盖、密封圈、真空挡板阀以及带有控制阀的细管道，所述壳体设有一浅孔，所述浅孔内设有至少三个用于支撑样品片的支撑脚，浅孔的内壁上设有一圈环形的台阶，所述密封圈支撑于所述台阶上，所述密封盖压盖于密封圈上与浅孔的底部形成真空腔室，浅孔的底部开设通孔，所述真空挡板阀通过与所述通孔相连实现与真空腔室的连通，浅孔的的侧壁上开设有排气孔，所述细管道通过与所述排气孔相连实现与真空腔室的连通。
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