[实用新型]一种化学气相沉积系统有效
申请号: | 201720306140.0 | 申请日: | 2017-03-27 |
公开(公告)号: | CN206607312U | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;肖明;郭光灿 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种化学气相沉积系统,包括化学沉积室;化学沉积室包括反应腔体;设置于化学沉积室外的高温加热装置;与化学沉积室相连通的气体供给系统;气体供给系统包括气体源进气管与固体源气体进气管,固体源气体进气管位于气体源进气管的管内;固体源气体进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;气体源进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;与化学沉积室的反应腔体相连通的真空系统。与现有技术相比,本实用新型将固体源气体进气管与固体源气体进气管分开,使固体源气体完全不受气体源气体的影响,使两种源无交叉污染生长;通过将固体源移到固体加热装置里,使其不受高温辐射的影响,实现对固体源蒸发速率的控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积系统,其特征在于,包括:化学沉积室;所述化学沉积室包括反应腔体;设置于化学沉积室外的高温加热装置;与化学沉积室相连通的气体供给系统;所述气体供给系统包括气体源进气管与固体源气体进气管,所述固体源气体进气管位于气体源进气管的管内;所述固体源气体进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;所述气体源进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;与化学沉积室的反应腔体相连通的真空系统。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的