[实用新型]浸没式光刻机基底台系统、浸没式光刻机

摘要

本实用新型提供的浸没式光刻机基底台系统及浸没式光刻机，在浸没式光刻机基底台系统中设置两个可以移动的分动台，在分动台的侧边上设置伸缩桥装置，该伸缩桥装置伸长时可与另一个分动台的侧边接合，这样当投影物镜以及浸没液体在一个分动台上光刻完成后，可以经过伸长后的伸缩桥装置移动至另一个分动台，也就是说伸缩桥装置在两个分动台之间为浸没液体提供的垂向支撑，而浸没液体在投影物镜下本身通过磁力可维持水平方向的形状，使用包含这种浸没式光刻机基底台系统的光刻机，使得光刻时两个分动台上的光刻可以无缝衔接，提高了生产效率。

主权项

一种浸没式光刻机基底台系统，位于浸液系统下方，所述浸液系统维持浸没液体，其特征在于，所述浸没式光刻机基底台系统包括两个或两个以上用于承载基底的分动台，所述分动台中的一个或多个的侧面固定有伸缩桥装置，当所述伸缩桥装置伸展时，所述伸缩桥装置将两个所述分动台的侧边皆接合，使所述浸没液体从一个分动台上转移至另一个分动台上。