[实用新型]用于承载掩膜板的承载台、掩膜板、掩膜板固定组件有效
申请号: | 201720388938.4 | 申请日: | 2017-04-12 |
公开(公告)号: | CN206610079U | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 胡斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于承载掩膜板的承载台,所述承载台上设置有能够与待承载掩膜板上第二固定结构相配合的第一固定结构,所述第一固定结构包括设置在所述承载台上能够与所述待承载掩膜板的边缘区域接触的多个支撑杆,通过所述第一固定结构与所述第二固定结构相配合,能够使得待承载掩膜板在第一状态和第二状态之间切换,其中,第一状态下,所述待承载掩膜板与多个支撑杆中的第一支撑杆接触且绕所述第一支撑杆的轴线在水平面内旋转,在第二状态下,所述待承载掩膜板与多个支撑杆中的至少两个支撑杆接触且相对所述承载台固定。本实用新型还涉及一种掩膜板、掩膜板固定组件。 | ||
搜索关键词: | 用于 承载 掩膜板 固定 组件 | ||
【主权项】:
一种用于承载掩膜板的承载台,其特征在于,所述承载台上设置有能够与待承载掩膜板上第二固定结构相配合的第一固定结构,所述第一固定结构包括设置在所述承载台上能够与所述待承载掩膜板的边缘区域接触的多个支撑杆,通过所述第一固定结构与所述第二固定结构相配合,能够使得待承载掩膜板在第一状态和第二状态之间切换,其中,第一状态下,所述待承载掩膜板与多个支撑杆中的第一支撑杆接触且绕所述第一支撑杆的轴线在水平面内旋转,在第二状态下,所述待承载掩膜板与多个支撑杆中的至少两个支撑杆接触且相对所述承载台固定。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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