[实用新型]阵列测量装置及阵列定位装置有效
申请号: | 201720434732.0 | 申请日: | 2017-04-24 |
公开(公告)号: | CN206670557U | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
发明(设计)人: | 胡贤夫 | 申请(专利权)人: | 昆山国显光电有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 智云 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种阵列测量装置及阵列定位装置,所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系,所述阵列基板与所述真空反应装置为方形,所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置,所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置,其中所述镜筒装置具有第一端面和第二端面,所述目镜装置靠近所述第一端面,所述目镜装置包括刻度标记,所述透镜装置靠近所述第二端面,所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间,所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。 | ||
搜索关键词: | 阵列 测量 装置 定位 | ||
【主权项】:
一种阵列测量装置,所述阵列测量装置测量阵列基板与真空反应装置之间的位置关系,所述阵列基板与所述真空反应装置为方形,所述真空反应装置将所述阵列基板承载于其自身的中心位置,其特征在于,所述阵列测量装置包括镜筒装置、目镜装置、照明装置、透镜装置,其中:所述镜筒装置具有第一端面和第二端面,所述目镜装置靠近所述第一端面,所述目镜装置包括刻度标记,所述透镜装置靠近所述第二端面,所述照明装置位于所述目镜装置和所述透镜装置之间,所述第二端面接触所述阵列基板的一顶角。
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