[实用新型]多组分涂层和具有多组分涂层的半导体工艺腔室部件

摘要

本实用新型涉及多组分涂层和具有多组分涂层的半导体工艺腔室部件。一种用于半导体工艺腔室部件的表面的多组分涂层组成物包括使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的氧化钇或氟化钇的至少一个第一膜层以及使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的额外氧化物或额外氟化物的至少一个第二膜层，其中该多组分涂层组成物选自由YOxFy、YAlxOy、YZrxOy和YZrxAlyOz组成的群组。

主权项

一种被涂布的半导体工艺腔室部件，包括；具有表面的半导体工艺腔室部件；以及被涂布在所述表面上的多组分涂层，所述多组分涂层包括：使用原子层沉积工艺涂布到所述表面上的氧化钇或氟化钇的至少一个第一膜层；以及使用原子层沉积工艺涂布到所述表面上的额外氧化物或额外氟化物的至少一个第二膜层。