[实用新型]用于基板处理腔室的盖体以及处理腔室

摘要

本公开内容涉及一种用于基板处理腔室的盖体及一种处理腔室。本公开内容的实施方式包括用于降低处理腔室内的颗粒产生的方法和设备。在一个实施方式中，本实用新型提供一种用于基板处理腔室的盖体。盖体包括：盖构件，所述盖构件具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；通过所述盖构件的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包括具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段和具有第三直径的第三段，其中第二直径是在第一直径和第三直径之间，且第一直径从第二段朝向盖构件第一表面增加；和沟槽，所述沟槽沿着第一表面中的封闭路径形成且具有形成在沟槽的内表面中的凹槽。

主权项

1.一种用于基板处理腔室的盖体，其特征在于，包含：盖构件，所述盖构件具有第一表面和与所述第一表面相对的第二表面；通过所述盖构件的中央开口，其中所述中央开口的内轮廓包含具有第一直径的第一段、具有第二直径的第二段，和具有第三直径的第三段，其中所述第二段被设置在所述第一段和所述第三段之间，且所述第一直径从所述第二段朝向所述盖构件的所述第一表面逐渐增加，且其中所述第一段具有相对于所述中央开口的轴线成角度的内表面；和沟槽，所述沟槽沿着所述第一表面中的封闭路径形成，所述沟槽具有形成在所述沟槽的内表面中的凹槽。