[实用新型]超结金属栅场效应晶体管封装结构有效

专利信息
申请号: 201720466926.9 申请日: 2017-04-28
公开(公告)号: CN206877981U 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 任留涛 申请(专利权)人: 上海超致半导体科技有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L23/367;H01L23/552;H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙)31297 代理人: 赵朋晓
地址: 201203 上海市浦东新区自*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种超结金属栅场效应晶体管封装结构,包括超结MOSFET芯片、底载板、源极导电基板、栅极导电焊板和漏极导电焊板;所述超结MOSFET芯片的顶部设有源极、栅极和漏极,所述源极、栅极和漏极上均设有对应的导电凸点,所述源极的导电凸点高于所述栅极的导电凸点和所述漏极的导电凸点;所述源极导电基板包括基板引脚区和散热区,所述基板引脚区设于所述源极的导电凸点的顶部,且所述基板引脚区与所述源极的导电凸点电连接,所述散热区设于所述栅极的导电凸点和所述漏极的导电凸点的上方;所述超结MOSFET芯片靠近所述漏极的一端设有所述栅极导电焊板和漏极导电焊板。
搜索关键词: 金属 场效应 晶体管 封装 结构
【主权项】:
一种超结金属栅场效应晶体管封装结构,其特征在于,包括超结MOSFET芯片、底载板、源极导电基板、栅极导电焊板和漏极导电焊板;所述超结MOSFET芯片的底部设有所述底载板,所述底载板上内嵌有与所述超结MOSFET芯片对应的底载板散热区,所述底载板散热区的底部外露于所述底载板,所述超结MOSFET芯片的顶部设有源极、栅极和漏极,所述源极、栅极和漏极上均设有对应的导电凸点,所述源极的导电凸点高于所述栅极的导电凸点和所述漏极的导电凸点;所述源极导电基板包括基板引脚区和导电基板散热区,所述基板引脚区设于所述源极的导电凸点的顶部,且所述基板引脚区与所述源极的导电凸点电连接,所述基板引脚区设有向所述底载板靠近的弯折部,所述导电基板散热区设于所述栅极的导电凸点和所述漏极的导电凸点的上方;所述超结MOSFET芯片靠近所述漏极的一端设有所述栅极导电焊板和漏极导电焊板,所述栅极导电焊板包括栅极焊接区和栅极引脚区,所述栅极焊接区和栅极引脚区的连接处设有弯折部,所述栅极的导电凸点和所述栅极焊接区通过栅极金属线连接,所述漏极导电焊板包括漏极焊接区和漏极引脚区,所述漏极焊接区和漏极引脚区的连接处设有弯折部,所述漏极的导电凸点和所述漏极焊接区通过漏极金属线连接;所述底载板的顶部设有环绕所述超结MOSFET芯片的屏蔽层,所述屏蔽层、所述源极导电基板、所述底载板形成封闭空间,所述封闭空间的空隙处填充有环氧树脂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海超致半导体科技有限公司,未经上海超致半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720466926.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top