[实用新型]强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统有效
| 申请号： | 201720473371.0 | 申请日： | 2017-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN206907500U | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 王祖军;陈伟;薛院院;刘敏波;刘静;何宝平;姚志斌;郭红霞;金军山;马武英;盛江坤;董观涛 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;G21F3/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人： | 陈广民 |
| 地址： | 710024 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光电成像监测技术领域，具体涉及一种强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统。该辐射防护系统包括成像反射模块和辐射屏蔽模块；成像反射模块位于辐射源和光电成像监测系统之间，用于将辐射源的图像信息经光路反射后进入光电成像监测系统；辐射屏蔽模块围设在光电成像监测系统外部，用于屏蔽辐射源发出的射线。本实用新型通过采用镜面反射的光路设计，使光电成像监测系统镜头对辐射源的待监测区域进行镜面成像，既能监测指定区域，同时又能避免强电离辐射对光电成像监测系统光敏核心元器件的直接辐照，克服了强电离辐射环境下光电成像监测系统辐射防护的难题，显著提高了光电成像监测系统在强电离辐射环境中的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 电离辐射 环境 光电 成像 监测 辐射 防护 系统 | ||
【主权项】：
一种强电离辐射环境下光电成像监测用辐射防护系统，其特征在于：包括成像反射模块和辐射屏蔽模块；所述成像反射模块位于辐射源和光电成像监测系统之间，用于将辐射源的图像信息经光路反射后进入光电成像监测系统；所述辐射屏蔽模块围设在光电成像监测系统外部，用于屏蔽辐射源发出的射线。
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