[实用新型]一种改进型化学镀铜装置有效
申请号: | 201720482169.4 | 申请日: | 2017-05-03 |
公开(公告)号: | CN206940983U | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 李政德 | 申请(专利权)人: | 李政德 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38 |
代理公司: | 东营双桥专利代理有限责任公司37107 | 代理人: | 侯玉山,宋风娥 |
地址: | 257200 山东省东营市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种改进型化学镀铜装置,包括装置主体,所述装置主体为中空结构,且内部装有电解质溶液,所述装置主体的内腔中心位置安装有搅拌桨,所述搅拌桨的一侧设置有铜板,所述搅拌桨远离铜板的一侧设置有待镀金属板,所述铜板通过导线连接有电源的正极,所述待镀金属板通过导线连接有电源的负极,所述装置主体位于铜板下方的位置设置有第一开口,且第一开口的位置安装有第一叶轮。本实用新型在装置中增设搅拌桨,使得溶液内铜离子分布均匀,便于待镀金属表面镀铜均匀,通过流动管道,将铜板附近电离的铜离子传递至待镀金属远离铜板的一侧,使得待镀金属两侧的铜离子分布均匀,有效的保证了反应速率,提高了镀铜的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 改进型 化学 镀铜 装置 | ||
【主权项】:
一种改进型化学镀铜装置,包括装置主体(1),其特征在于,所述装置主体(1)为中空结构,且内部装有电解质溶液(5),所述装置主体(1)的内腔中心位置安装有搅拌桨(2),所述搅拌桨(2)的一侧设置有铜板(3),所述搅拌桨(2)远离铜板(3)的一侧设置有待镀金属板(4),所述铜板(3)通过导线连接有电源(6)的正极,所述待镀金属板(4)通过导线连接有电源(6)的负极,所述装置主体(1)位于铜板(3)下方的位置设置有第一开口(7),且第一开口(7)的位置安装有第一叶轮(8),所述第一开口(7)连接有流动管道(9)的一端,所述流动管道(9)远离第一开口(7)的一端连接有第二开口(10),所述第二开口(10)设置于装置主体(1)远离铜板(3)的一侧侧壁上,且第二开口(10)与装置主体(1)连通,所述第二开口(10)靠近待镀金属板(4),所述第二开口(10)与装置主体(1)的连接处设置有第二叶轮(11)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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