[实用新型]材料表面处理工艺过程中的等离子体三维信息诊断系统有效

专利信息
申请号: 201720494804.0 申请日: 2017-05-05
公开(公告)号: CN206920020U 公开(公告)日: 2018-01-23
发明(设计)人: 倪俊;葛胜兵;安宁 申请(专利权)人: 安徽谱泉光谱科技有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/06;G01N21/25
代理公司: 合肥顺超知识产权代理事务所(特殊普通合伙)34120 代理人: 赵宗海
地址: 230000 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型涉及等离子体三维诊断技术领域,具体涉及一种材料表面处理工艺过程中的等离子体三维信息诊断系统;包括计算机、第一平面反射镜、聚焦透镜、入射狭缝、第二平面反射镜、第一球面反射镜、凸面光栅、第二球面聚焦镜和面阵探测器,采用平面反射镜旋转扫描采集及Offner成像光谱诊断系统相结合,通过扫描第一平面反射镜实现不同区域的等离子体信号的采集,扫描过程简单、迅速。通过Offner成像光谱诊断系统实现对所采集信息的分光、探测,最终实现对腔体内的等离子体三维信息的诊断。该系统可以在表面处理腔体外实现对腔体内部的成像信号和二维光谱信息的获取,光谱信号和成像图相对应,可为表面处理工艺过程提供在线检测手段。
搜索关键词: 材料 表面 处理 工艺 过程 中的 等离子体 三维 信息 诊断 系统
【主权项】:
一种材料表面处理工艺过程中的等离子体三维信息诊断系统,其特征在于:所述诊断系统包括计算机、第一平面反射镜、聚焦透镜、入射狭缝、第二平面反射镜、第一球面反射镜、凸面光栅、第二球面聚焦镜和面阵探测器,所述诊断系统布置在表面处理工艺腔体外,所述诊断系统最前端为可旋转式平面反射镜,所述诊断系统采用聚焦镜头将平面反射镜采集的光聚焦到Offner成像光谱仪的入射狭缝处,所述诊断系统利用平面反射镜来偏转光路,所述诊断系统包括有二维面阵探测器,其所采集数据一维为光谱维,另一维为空间维,所述平面反射镜的旋转、面阵探测器的数据采集、采集图谱的拼接与计算机连接,所述平面反射镜的扫描速度与面阵探测器采集的速度相互匹配。
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