[实用新型]一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体有效
申请号: | 201720519116.5 | 申请日: | 2017-05-11 |
公开(公告)号: | CN206712758U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 谢建辉;杨宗安 | 申请(专利权)人: | 福建省将乐县长兴电子有限公司 |
主分类号: | H03H9/05 | 分类号: | H03H9/05;H03H9/10;H03H9/19 |
代理公司: | 北京天奇智新知识产权代理有限公司11340 | 代理人: | 曾捷 |
地址: | 353300 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体,它包括长条形块状底座(1);两条条状凹槽(111),前后间隔地设于长条形块状底座(1)上;若干个大尺寸晶振放置腔(211),间隔地设在间隔分布的条状凹槽(111)之间的长条形块状底座(1)上,每一大尺寸晶振放置腔(211)向下凹陷形成;若干个小尺寸晶振放置腔(212),与大尺寸晶振放置腔(211)一一对应并向下凹陷形成于所述大尺寸晶振放置腔(211)的腔底上;本实用新型的优点是实现了两种尺寸的晶振放置,提高了座体的通用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 适用于 尺寸 放置 | ||
【主权项】:
一种适用于大尺寸晶振和小尺寸晶振放置的座体,其特征在于:它包括长条形块状底座(1);两条条状凹槽(111),前后间隔地设于长条形块状底座(1)上;若干个大尺寸晶振放置腔(211),间隔地设在间隔分布的条状凹槽(111)之间的长条形块状底座(1)上,每一大尺寸晶振放置腔(211)向下凹陷形成;若干个小尺寸晶振放置腔(212),与大尺寸晶振放置腔(211)一一对应并向下凹陷形成于所述大尺寸晶振放置腔(211)的腔底上;第一相抵面(311),形成在大尺寸晶振放置腔(211)前侧的条状凹槽(111)上用于与放置到大尺寸晶振放置腔(211)上的晶振的前端相抵;第二相抵面(312),形成在小尺寸晶振放置腔(212)前侧的条状凹槽(111)上用于与放置到小尺寸晶振放置腔(212)上的晶振的前端相抵;第三相抵面(313),形成在大尺寸晶振放置腔(211)后侧的条状凹槽(111)上用于与放置到大尺寸晶振放置腔(211)上的晶振的后端相抵;第四相抵面(314),形成在小尺寸晶振放置腔(212)前侧的条状凹槽(111)上用于与放置到小尺寸晶振放置腔(212)上的晶振的后端相抵。
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