[实用新型]用于光学元件的激光预处理装置有效

专利信息
申请号: 201720533803.2 申请日: 2017-05-15
公开(公告)号: CN206981987U 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: 蒋一岚;栾晓雨;王海军;廖威;陈静;张丽娟;张传超;蒋晓龙;白阳;袁晓东;周海 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/064;B23K26/70
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 代理人: 郑健
地址: 621900 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种用于光学元件的激光预处理装置,包括用于发出激光的激光光源;依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台;其中,激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统,光束整形系统对激光进行光束整形,将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑,最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本实用新型的激光预处理装置,形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀,并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸,进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。
搜索关键词: 用于 光学 元件 激光 预处理 装置
【主权项】:
一种用于光学元件的激光预处理装置,其特征在于,包括:用于发出激光的激光光源;依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台;其中,激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统,光束整形系统对激光进行光束整形,将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑,最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。
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