[实用新型]具有保护环的光刻板有效
申请号: | 201720584690.9 | 申请日: | 2017-05-24 |
公开(公告)号: | CN206773393U | 公开(公告)日: | 2017-12-19 |
发明(设计)人: | 高宝华 | 申请(专利权)人: | 常州银河电器有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 常州市科谊专利代理事务所32225 | 代理人: | 孙彬 |
地址: | 213000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种具有保护环的光刻板,包括光刻板本体和设置在光刻板本体最外圈的保护环,所述保护环紧密围在光刻板本体的外部边缘处并将内部的光刻板本体围起,所述保护环上具有圆型开孔、直角型开孔与直线型开孔,所述直角型开孔设置在光刻板本体的转角处,所述直线型开孔设置在光刻板本体的水平边缘与竖直边缘,所述圆型开孔设置在直角型开孔与直线型开孔的连接处。本实用新型在光刻板本体的外部边缘增设一保护环,保护环具有多种开孔,以便在保护环处的硅片的边缘处刻出晶粒,硅片边缘刻出晶粒后,边缘的不合格情况通过目测可以清楚看出,能有效防止混料情况,硅片带有保电性,不易打火。 | ||
搜索关键词: | 具有 保护环 刻板 | ||
【主权项】:
一种具有保护环的光刻板,其特征在于:包括光刻板本体(1)和设置在光刻板本体(1)最外圈的保护环(2),所述保护环(2)紧密围在光刻板本体(1)的外部边缘处并将内部的光刻板本体(1)围起,所述保护环(2)上具有圆型开孔(3)、直角型开孔(4)与直线型开孔(5),所述直角型开孔(4)设置在光刻板本体(1)的转角处,所述直线型开孔(5)设置在光刻板本体(1)的水平边缘与竖直边缘,所述圆型开孔(3)设置在直角型开孔(4)与直线型开孔(5)的连接处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州银河电器有限公司,未经常州银河电器有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720584690.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高保真三维全息投影气氛烘托展示墙
- 下一篇:一种用于打印机的一体式齿轮
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备