[实用新型]一种大电流高速高可靠性NPN型功率晶体管有效

专利信息
申请号: 201720591954.3 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN207068865U 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 龚利汀;龚利贞 申请(专利权)人: 无锡固电半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/73 分类号: H01L29/73;H01L29/06
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 曹祖良
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种大电流高速高可靠性NPN型功率晶体管,N+型衬底的正面设有N‑型集电区,背面设有背面金属层;N‑型集电区内的中间部分形成P型基区,PN结深度为10μm,P型基区上连接有极金属层,N‑型集电区内的边缘部分形成N+型中止环,P型基区内设有N+型发射区,N+型发射区周围设有N+型增阻环,N+型增阻环设在P型基区内,N+型发射区上连接发射极金属层;N‑型集电区表面覆盖氧化层,氧化层上覆盖钝化层,钝化层开两个窗口,分别引出基极和发射极金属层;本实用新型通过减小P型基区的结深,增设中止环结构,同时采用了增阻环结构,并减小晶体管的面积,使产品具有可靠性高,漏电小,电流大,高频,低饱和压降、开关时间速度快等特点。
搜索关键词: 一种 电流 高速 可靠性 npn 功率 晶体管
【主权项】:
一种大电流高速高可靠性NPN型功率晶体管,包括N+型衬底(9),所述N+型衬底(9)的正面设有N‑型集电区(8),所述N+型衬底(9)背面设有背面金属层(10),用于引出晶体管的集电极;所述N‑型集电区(8)中间形成有P型基区(7),其特征在于,所述P型基区(7)深入到N‑型集电区(8)内,深度为10μm,所述P型基区(7)上连接有基极金属层(1),用于引出晶体管的基极,所述N‑型集电区(8)边缘形成有N+型中止环(11),所述N+型中止环(11)深入到N‑型集电区(8)内,所述P型基区(7)内设有N+型发射区(5),所述N+型发射区(5)周围设有N+型增阻环(6),所述N+型增阻环(6)设在P型基区(7)内,所述N+型发射区(5)上连接有发射极金属层(2),用于引出晶体管的发射极;所述N‑型集电区(8)表面覆盖有氧化层(4),所述基极金属层(1)和发射极金属层(2)间通过氧化层(4)隔离,所述氧化层(4)上覆盖有表面钝化层(3),所述表面钝化层(3)对应P型基区(7)和N+型发射区(5)各开一个窗口,分别用于引出基极金属层(1)和发射极金属层(2)。
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