[实用新型]单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置有效

专利信息
申请号: 201720595993.0 申请日: 2017-05-25
公开(公告)号: CN206819975U 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 耿彪 申请(专利权)人: 北京华林嘉业科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 北京恩赫律师事务所11469 代理人: 赵文成
地址: 101118 北京市通州*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置,属于半导体制造、太阳能电池制造及液晶制造技术领域。所述清洗干燥装置包括箱体、上下料装置、基板固定装置、基板喷洗干燥装置、基板旋转装置和药液回收装置,所述箱体的上端具有开口,下端具有药液排出口;所述上下料装置位于所述箱体上,所述基板固定装置设置在所述箱体内,所述基板旋转装置位于所述箱体的下方;所述基板固定装置与基板旋转装置之间采用传动轴连接;所述基板喷洗干燥装置包括基板正面喷洗干燥装置和基板背面喷洗干燥装置;所述药液回收装置位于箱体的下方且与箱体的药液排出口之间采用管道连接。本实用新型能够在保证清洗效果的同时能够对单片基板进行快速清洗。
搜索关键词: 单片 湿法 制程中 腐蚀 清洗 干燥 装置
【主权项】:
一种单片基板湿法制程中腐蚀清洗干燥装置,其特征在于,包括箱体、上下料装置、基板固定装置、基板喷洗干燥装置、基板旋转装置和药液回收装置,其中:所述箱体的上端具有开口,下端具有药液排出口;所述上下料装置位于所述箱体上,所述基板固定装置设置在所述箱体内,所述基板旋转装置位于所述箱体的下方;所述基板固定装置与基板旋转装置之间采用传动轴连接;所述基板喷洗干燥装置包括基板正面喷洗干燥装置和基板背面喷洗干燥装置,所述基板正面喷洗干燥装置包括位于基板固定装置上方的第一去离子水喷洗装置、第一热N2干燥装置、第一药液喷洗装置和刷洗装置,所述基板背面喷洗干燥装置包括位于基板固定装置下方的第二去离子水喷洗装置、第二热N2干燥装置和第二药液喷洗装置,所述第二去离子水喷洗装置、第二热N2干燥装置和第二药液喷洗装置的喷嘴均位于所述箱体内;所述药液回收装置位于所述箱体的下方且与所述箱体的药液排出口之间采用管道连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华林嘉业科技有限公司,未经北京华林嘉业科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201720595993.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top