[实用新型]一种可改善出光发散角的对接型半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201720677164.7 申请日: 2017-06-12
公开(公告)号: CN207282905U 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 师宇晨;潘彦廷;李马惠;穆瑶;卫思逸;赵小亮;杨旗;韦盼;杨亚楠;杨英 申请(专利权)人: 陕西源杰半导体技术有限公司
主分类号: H01S5/34 分类号: H01S5/34;H01S5/343
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司61200 代理人: 徐文权
地址: 712000 陕西省西安市西咸新区沣西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 实用新型公开了一种可改善出光发散角的对接型半导体激光器,包括衬底以及设置在衬底上表面的量子阱,量子阱出光端对接生长有晶体外延生长InP,本实用新型的有益效果是在不增加激光器芯片的阈值电流的前提下,通过在传统边射型激光器端面长一层15um宽的InP(磷化铟),从而可以减少出光发散角,使远场光场变小,提高耦光效率,同时由于量子阱的结构没有发生改变,量子阱区的光局限因子也不改变,因此激光器芯片的阈值电流也不会增加。此结构借由晶体二次外延技术得以实现,解决了传统边射型半导体激光器芯片为了实现低的阈值电流,通常会使光尽可能多的被束缚在量子阱(铟镓砷磷)区,但光在量子阱区被束缚的越强烈,在激光器出光端面,形成的发散角就会越大,远场光场就越大,导致耦光率降低的问题。
搜索关键词: 一种 改善 发散 对接 半导体激光器
【主权项】:
一种可改善出光发散角的对接型半导体激光器,其特征在于,包括衬底(11)以及设置在衬底(11)上表面的量子阱(2),量子阱(2)出光端对接生长有晶体外延生长InP(6);还包括设置在衬底(11)下表面的N型电极(10)以及覆盖在量子阱(2)和晶体外延生长InP(6)上的P型掺杂InP(7)和覆盖在P型掺杂InP(7)的金属接触层InGaAs(8),金属接触层InGaAs(8)顶面设置有P型电极(9)。
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