[实用新型]一种天麻清洗设备

摘要

本实用新型公开了一种天麻清洗设备，包括机架和分别设于机架上的第一清洗段、浸泡段和第二清洗段。第一清洗段包括传送料槽、传送辊、传送带和第一清洗机构，传送料槽装设于机架上，传送辊装设于传送料槽的两端。传送带套设于传送辊上，第一清洗机构装设于传送料槽中部，且第一清洗机构下方设有翻料辊，传送料槽的两端分别设有进料斗和出料口。浸泡段和第二清洗段分别设于装设于机架上且位于第一清洗段下游的浸泡槽内，浸泡段和第二清洗段包括相互连接设于浸泡槽内的传送辊和传送带，浸泡段包括设置于传送带下方的多排鼓风管，第二清洗段包括设置于浸泡槽上的第二清洗机构。本实用新型采用上述结构设计提高了天麻的清洗效率和清洗效果。

主权项

一种天麻清洗设备，其特征在于：包括机架(1)和分别设于机架(1)上的第一清洗段(A)、浸泡段(B)和第二清洗段(C)，所述第一清洗段(A)包括传送料槽(2)、传送辊(3)、传送带(4)和第一清洗机构(5)，所述传送料槽(2)呈一定角度倾斜的装设于机架(1)上，所述传送辊(3)装设于传送料槽(2)的两端，且传送辊(3)通过设置于其一侧的驱动电机(6)驱动，所述传送带(4)套设于所述传送辊(3)上，且所述传送带(4)呈镂空设计，传送带(4)上间隔均匀的设有多个提料卡板(4a)，所述第一清洗机构(5)装设于传送料槽(2)中部，且所述第一清洗机构(5)下方的传送料槽(2)上设有翻料辊(7)，且所述传送带(4)套设于翻料辊(7)上形成凸起(8)，所述传送料槽(2)的两端分别设有进料斗(9)和出料口(10)；所述浸泡段(B)和第二清洗段(C)分别设于装设于机架(1)上且位于所述第一清洗段(A)下游的浸泡槽(11)内，所述浸泡段(B)和第二清洗段(C)包括相互连接设于浸泡槽(11)内的传送辊(3)和传送带(4)，所述浸泡段(B)包括设置于传送带(4)下方的多排鼓风管(12)，所述第二清洗段(C)包括设置于浸泡槽(11)上的第二清洗机构(13)。