[实用新型]雪崩二极管和雪崩二极管阵列有效

专利信息
申请号: 201720762318.2 申请日: 2017-06-28
公开(公告)号: CN206992134U 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: L·斯塔克 申请(专利权)人: 意法半导体(R&D)有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18;H01L27/144
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 王茂华
地址: 英国白*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及雪崩二极管和雪崩二极管阵列。一种雪崩二极管包括PN结,该PN结具有与该PN结相邻的第一深沟槽结构。提供了光子进行撞击所经由的区域,该PN结相对于该区域基本上纵向地延伸。
搜索关键词: 雪崩 二极管 阵列
【主权项】:
一种雪崩二极管,其特征在于,包括:PN结;第一深沟槽结构,所述第一深沟槽结构与所述PN结相邻;以及光子进行撞击所经由的区域,所述PN结相对于所述区域基本上纵向地延伸。
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