[实用新型]光罩

摘要

光罩。涉及半导体领域，具体涉及一种晶片生产中使用的光罩。该光罩可防止光刻胶内缩堆积、影响晶片的外观，其包括基板和设在基板上的、由光阻层构成的图案，所述基板上、所述图案的周围设有一条闭环的蚀刻槽。所述蚀刻槽的截面为U型。所述蚀刻槽内设有圆环型的弹性挡板和弹性密封膜，所述弹性挡板通过若干与蚀刻槽的槽底平行的连接杆连接在蚀刻槽的外侧壁上，所述连接杆伸出基板；通过在光罩板外圈增加一条蚀刻槽，使光阻胶涂布晶片在旋转停止时蚀刻槽有一定距离缓冲，最终使到晶粒台面的光阻胶积累量变少，达到晶片台面光阻胶减薄的目的，改善晶片了外观，节省了人工工时，提升了产出率。

主权项

光罩，包括基板和设在基板上的、由光阻层构成的图案，其特征在于，所述基板上、所述图案的周围设有一条闭环的蚀刻槽，所述蚀刻槽内设有圆环型的弹性挡板和弹性密封膜，所述弹性挡板通过若干与蚀刻槽的槽底平行的连接杆连接在蚀刻槽的外侧壁上，所述连接杆伸出基板；所述连接杆上设有若干凹槽，所述基板的侧壁上、连接杆伸出的开口处设有卡件；所述弹性密封膜的内边固定在弹性挡板的上部，所述弹性密封膜的外边固定连接在蚀刻槽的外侧壁上。