[实用新型]一种DFB激光器外延片有效

专利信息
申请号: 201720777435.6 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN207069287U 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 单智发 申请(专利权)人: 苏州全磊光电有限公司
主分类号: H01S5/12 分类号: H01S5/12;H01S5/343
代理公司: 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 代理人: 刘计成
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提供一种DFB激光器外延片,包括衬底,所述衬底的正面上依次沉积有缓冲层、限制层、下波导层、量子阱、上波导层、上限制层、缓冲层、腐蚀阻挡层、包层和蚀刻的光栅制作层,光栅制作层上依次生长有二次外延层、势垒渐变层和欧姆接触层,所述衬底的背面设有保护层。通过在磷化铟衬底背面预先制作一层保护层,使外延生长的DFB激光器一次外延片质量好,均匀性和一致性好可稳定DFB激光器外延片生产,提高DFB激光器生产良率。
搜索关键词: 一种 dfb 激光器 外延
【主权项】:
一种DFB激光器外延片,包括衬底(01),所述衬底(01)的正面上依次沉积有第一缓冲层(02)、限制层(03)、下波导层(04)、量子阱(05)、上波导层(06)、上限制层(07)、第二缓冲层(08)、腐蚀阻挡层(09)、包层(10)和蚀刻的光栅制作层(11),光栅制作层(11)上依次生长有二次外延层(12)、势垒渐变层(13、14)和欧姆接触层(15),其特征在于:所述衬底(01)的背面设有保护层(00)。
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