[实用新型]多密度图案投影仪有效
| 申请号： | 201720838943.0 | 申请日： | 2017-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN207133564U | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 王兆民;许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种多密度图案投影仪，包括光源、透镜以及衍射光学元件，其中光源为VCSEL阵列光源，包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列，并且4个独立控制的VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次减少，以满足不同密度结构光图案的投影。基于该多密度图案投影仪的深度相机可以用来获取不同精度的深度图像从而适用于多种应用。 | ||
| 搜索关键词： | 密度 图案 投影仪 | ||
【主权项】：
一种多密度图案投影仪，包括光源、透镜以及衍射光学元件，其特征在于，所述光源为VCSEL阵列光源；所述VCSEL阵列光源包括半导体衬底以及排列在所述半导体衬底上的4个独立控制的VCSEL光源子阵列；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源数量依次减少；所述4个VCSEL光源子阵列中VCSEL光源的数量依次为：50～500、40～400、5～50、4～40。
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