[实用新型]一种管道结构及光刻胶显影设备有效

专利信息
申请号: 201720911929.9 申请日: 2017-07-26
公开(公告)号: CN207164468U 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: 潘卿峰 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种管道结构及光刻显影设备,适用于光刻胶显影设备,属于半导体生产技术领域,包括过滤器,包括出料口和废液排放口,所述出料口连通出料管道,所述废液排放口连接通废液排放管道;喷嘴,通过所述出料管道与所述过滤器连通;三通阀,设置于所述出料管道上,所述三通阀的进口与所述出料口连通,所述三通阀的两个出口分别连通所述喷嘴和所述废液排放管道。上述技术方案的有益效果是通过设置一个三通阀,在更换过滤器后,使过滤器的出料口与废液排放管道连通,通过废液排放管道排出过滤器中的空气,解决过滤器中的空气进入供液管道内无法从喷嘴端排出的问题。
搜索关键词: 一种 管道 结构 光刻 显影 设备
【主权项】:
一种管道结构,适用于光刻胶显影设备,其特征在于,包括:过滤器,包括出料口和废液排放口,所述出料口连通出料管道,所述废液排放口连接通废液排放管道;喷嘴,通过所述出料管道与所述过滤器连通;三通阀,设置于所述出料管道上,所述三通阀的进口与所述出料口连通,所述三通阀的两个出口分别连通所述喷嘴和所述废液排放管道。
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