[实用新型]一种应用于DC‑Link的金属化薄膜有效
申请号: | 201720932854.2 | 申请日: | 2017-07-29 |
公开(公告)号: | CN207052454U | 公开(公告)日: | 2018-02-27 |
发明(设计)人: | 汪祥久 | 申请(专利权)人: | 昆山泓电隆泰电子材料有限公司 |
主分类号: | H01G4/015 | 分类号: | H01G4/015;H01G4/33 |
代理公司: | 南京常青藤知识产权代理有限公司32286 | 代理人: | 黄胡生 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种应用于DC‑Link的金属化薄膜,包括依次排列的第一双面金属化膜、第一介质膜、第二双面金属化膜和第二介质膜;第一介质膜与第二介质膜左右两端对齐;第一双面金属化膜与第二双面金属化膜错落设置;第一双面金属化膜与第二双面金属化膜分别露出第一介质膜和第二介质膜的左/右端或右/左端;第一双面金属化膜和第二双面金属化膜的上下表面分别设有绝缘分隔带。本实用新型采用双面金属化薄膜,具有体积小、导电面积和容量面积大等优点,在金属化薄膜上设置绝缘分隔带,可构成内串式结构,提升了耐压性能,因此能够很好地应用于DC‑Link中,替代电解电容。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 dc link 金属化 薄膜 | ||
【主权项】:
一种应用于DC‑Link的金属化薄膜,其特征在于,包括依次排列的第一双面金属化膜、第一介质膜、第二双面金属化膜和第二介质膜;所述第一介质膜与所述第二介质膜左右两端对齐;所述第一双面金属化膜与所述第二双面金属化膜错落设置;所述第一双面金属化膜与所述第二双面金属化膜分别露出所述第一介质膜和所述第二介质膜的左/右端或右/左端;所述第一双面金属化膜和所述第二双面金属化膜的上下表面分别设有绝缘分隔带。
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