[实用新型]一种硅片清洗设备的进料装置有效
| 申请号： | 201721065787.5 | 申请日： | 2017-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN207238610U | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 古元甲;刘晓伟;范猛;刘涛;石海涛;李伟;刘沛然;孙昊;孙毅;田志民;王少刚;邱长兴;李强瑛 | 申请（专利权）人： | 天津市环欧半导体材料技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)12213 | 代理人： | 栾志超 |
| 地址： | 300384 天津市西青*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种硅片清洗设备的进料装置，包括进料槽，进料槽内设置定位机构、硅片放置机构和分片机构，定位机构设置在硅片放置机构的前端，分片机构包括主喷元件和侧喷元件，主喷元件设置在硅片放置机构的尾端，侧喷元件设置在硅片放置机构的侧面，主喷元件与侧喷元件的进水管均与稳压泵连接，稳压泵与控制系统电连接。本实用新型的有益效果是通过主喷元件、侧喷元件与稳压泵连接，可设置水压上限与下限，量化水压数值，在整个插片过程使主侧喷元件水压精确控制，保证主侧喷元件水压平稳，减少插片过程中由于喷水压力过大与水压不稳波动剧烈造成的碎片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 设备 进料 装置 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗设备的进料装置，包括进料部，其特征在于：所述进料部内设置定位机构、硅片放置机构和分片机构，所述定位机构设置在所述硅片放置机构的前端，所述分片机构包括主喷元件和侧喷元件，所述主喷元件设置在所述硅片放置机构的尾端，所述侧喷元件设置在所述硅片放置机构的侧面，所述主喷元件与所述侧喷元件的进水管均与稳压泵连接，所述稳压泵与控制系统电连接。
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