[实用新型]一种耦合器设计的叠层结构有效

专利信息
申请号: 201721091219.2 申请日: 2017-08-29
公开(公告)号: CN207265210U 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 陈媛 申请(专利权)人: 深南电路股份有限公司
主分类号: H01P5/16 分类号: H01P5/16
代理公司: 深圳市深软翰琪知识产权代理有限公司44380 代理人: 徐翀
地址: 518000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种耦合器设计的叠层结构,主要由上芯板层、上介质层、中间芯板层、下介质层和下芯板层压合而成,其中所述中间芯板层包括中间绝缘层及其上、下表面的两层内层图形,所述两层内层图形构成用于耦合器的耦合带状线结构;所述上芯板层包括上绝缘层及其上表面的上铜箔层;所述下芯板层包括下绝缘层及其下表面的下铜箔层;所述上铜箔层和所述下铜箔层分别构成耦合器的顶层铜和底层铜。本实用新型方案的叠层设计可以保证内层图形的对位精度,增加带状线之间的耦合度;可实现宽频段耦合器的设计,而且叠层结构加工简单,同时保证了耦合带状线的对位精度,能够充分满足行业设计需求。
搜索关键词: 一种 耦合器 设计 结构
【主权项】:
一种耦合器设计的叠层结构,其特征在于,该叠层结构主要由上芯板层、上介质层、中间芯板层、下介质层和下芯板层压合而成,其中:所述中间芯板层包括中间绝缘层及其上、下表面的两层内层图形,所述两层内层图形构成用于耦合器的耦合带状线结构,所述上芯板层包括上绝缘层及其上表面的上铜箔层,所述下芯板层包括下绝缘层及其下表面的下铜箔层,所述上铜箔层和所述下铜箔层分别构成耦合器的顶层铜和底层铜。
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