[实用新型]一种回转体抛光机构有效
| 申请号： | 201721109461.8 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN207415085U | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 淮文博 | 申请（专利权）人： | 西安理工大学 |
| 主分类号： | B24B29/04 | 分类号： | B24B29/04 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 涂秀清 |
| 地址： | 710048*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开的一种回转体抛光机构,包括转轴，转轴的端部连接有旋转架；旋转架连接有抛光球。通过驱动转轴，旋转架在转轴的离心力的作用下展开，旋转架上设有的抛光球与回转体表面接触，对回转体表面进行打磨抛光。本实用新型回转体抛光机构，易对回转体表面进行高精度打磨，省时省力，工作效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转架 回转体表面 抛光机构 回转体 转轴 本实用新型 抛光球 工作效率高 打磨抛光 端部连接 驱动转轴 省力 省时 打磨 | ||
【主权项】：
1.一种回转体抛光机构，其特征在于，包括转轴(1)，所述转轴(1)的端部连接有旋转架(2)；所述旋转架(2)连接有抛光球(3)，所述转轴(1)与所述旋转架(2)铰接；所述旋转架(2)上设有第一安装孔(202)和第二安装孔(203)，所述第一安装孔(202)内设有配重块(204)，所述第二安装孔(203)内设有电机(205)；所述抛光球(3)的表面均匀设有抛光颗粒。
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