[实用新型]一种复合防辐射基片及防辐射手机外壳有效
| 申请号： | 201721114920.1 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN207354346U | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 李政;李志丽 | 申请（专利权）人： | 佛山市顺德区莱尔电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H04M1/02 | 分类号： | H04M1/02;H04M1/18;H05K9/00 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 唐超文;贺红星 |
| 地址： | 528325 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种复合防辐射基片及防辐射手机外壳，复合防辐射基片，包括至上而下依次叠合的防辐射膜、连接层、缓冲层和底膜；防辐射膜包括自上而下依次叠合的氮化硅层、氧化铟锡层和ITO层；防辐射膜的厚度为10‑75um；连接层上设有互相平行的两条凸沿，两条凸沿之间形成无限延伸的嵌合部；防辐射膜嵌合在嵌合部中；该基片可作为电子产品的装饰、壳体等周边配件的原料或半成品，以嵌合或贴合等方式组装成成品，应用于电子产品上，起到减低辐射的效果；防辐射手机外壳，包括复合防辐射基片和外壳体；复合防辐射基片嵌设在外壳体中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 防辐射 手机外壳 | ||
【主权项】：
1.一种复合防辐射基片，其特征在于，包括至上而下依次叠合的防辐射膜、连接层、缓冲层和底膜；所述防辐射膜包括自上而下依次叠合的氮化硅层、氧化铟锡层和ITO层；所述防辐射膜的厚度为10-75um；所述连接层上设有互相平行的两条凸沿，两条凸沿之间形成无限延伸的嵌合部；所述防辐射膜嵌合在嵌合部中。
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