[实用新型]一种光刻掩膜版有效
申请号: | 201721152567.6 | 申请日: | 2017-09-11 |
公开(公告)号: | CN207249352U | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 潘建英;王成森;沈怡东;钱如意;沈广宇 | 申请(专利权)人: | 捷捷半导体有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司32243 | 代理人: | 卢海洋 |
地址: | 226200 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光刻掩膜版,包括玻璃基板,预留铬层区,条形码,有效图形铬层区,光刻掩膜版为铬版,铬版为光刻掩膜版由玻璃基板与铬组成,有效图形铬层区位于玻璃基板正面的中间区域,玻璃基板正面边缘、有效图形铬层区的四周设置有预留铬层区,条形码位于预留铬层区一侧中间部位,条形码黑色部分保留铬层本色,预留铬层区内有有效图形铬层区。本实用新型打印出可用于扫描枪直接扫描的条形码,不占用有效图形铬层区,在光刻掩膜版上刻出供扫描枪扫描的标识,可直接实现对光刻掩膜版上条形码扫描将光刻版信息与MES系统及ERP系统就光刻掩膜版唯一身份信息的有效对接,大幅提升光刻掩膜版的管理效率及质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 掩膜版 | ||
【主权项】:
一种光刻掩膜版,包括玻璃基板,预留铬层区,条形码,有效图形铬层区,其特征在于:所述光刻掩膜版为铬版,所述铬版为光刻掩膜版由玻璃基板与铬组成,所述有效图形铬层区位于玻璃基板正面的中间区域,所述玻璃基板正面边缘、有效图形铬层区的四周设置有预留铬层区,所述条形码位于预留铬层区一侧中间部位,所述条形码黑色部分保留铬层本色,所述预留铬层区内有有效图形铬层区。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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