[实用新型]一种玻璃掩膜板及玻璃曝光显影装置有效
申请号: | 201721183091.2 | 申请日: | 2017-09-14 |
公开(公告)号: | CN207408736U | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 黄红伍;逯正旺;赵学军 | 申请(专利权)人: | 凯茂科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人: | 王琴;蒋慧 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明新区公明街道合*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种玻璃掩膜板及玻璃曝光显影装置。本实用新型的玻璃掩膜板,其用于与其他设备配合以便于待加工的产品进行曝光显影,所述的玻璃掩膜板包括本体和固定部,所述本体和固定部为一体成型或分体成型,所述本体为片材结构,所述固定部与本体的端部连接,所述固定部用于被支承设备支承或夹持,所述本体形状尺寸大于或等于待加工产品需要进行曝光显影区域的形状尺寸。本实用新型还提供一种玻璃曝光显影装置,其采用了如上所述的玻璃掩膜板。本实用新型的玻璃掩膜板能有效减少对掩膜板光刻部分的摩擦、碰撞的问题。 | ||
搜索关键词: | 玻璃掩膜 本实用新型 固定部 曝光显影装置 曝光显影 玻璃 待加工产品 端部连接 分体成型 片材结构 一体成型 有效减少 支承设备 掩膜板 光刻 夹持 支承 摩擦 加工 配合 | ||
【主权项】:
1.一种玻璃掩膜板,其用于与其他设备配合以便于待加工的产品进行曝光显影,其特征在于:所述的玻璃掩膜板包括本体和固定部,所述本体和固定部为一体成型或分体成型,所述本体为片材结构,所述固定部与本体的端部连接,所述固定部用于被支承设备支承或夹持,所述本体形状尺寸大于或等于待加工产品需要进行曝光显影区域的形状尺寸。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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