[实用新型]一种喷头、清洗装置及滴注设备有效

专利信息
申请号: 201721184691.0 申请日: 2017-09-15
公开(公告)号: CN207181872U 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 袁德茂;刘豫江;孙浪;黄信祥 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及一种喷头,用于滴注液晶,所述喷头上设有用于供液晶喷出的喷口;所述喷头包括本体,所述本体在设置所述喷口的一端形成第一端面,所述第一端面上设有凹槽,所述喷口设置于所述凹槽的底部,且所述本体内形成有与所述喷口相通的、贯穿所述本体设置的第一通孔。本实用新型还涉及一种清洗装置和滴注设备。本实用新型的有益效果是相对于现有技术,省略了沟槽的设置,从而有效的避免大量液晶的聚集,减少了大颗液晶非控制性的滴下造成的产品不良;凹槽的设置能够储存微量溅出的液晶,防止直接滴下或者流入到喷头周围,且起到保护喷口的作用。
搜索关键词: 一种 喷头 清洗 装置 滴注 设备
【主权项】:
一种喷头,用于滴注液晶,所述喷头上设有用于供液晶喷出的喷口;其特征在于,所述喷头包括:本体,所述本体在设置所述喷口的一端形成第一端面,所述第一端面上设有凹槽,所述喷口设置于所述凹槽的底部,且所述本体内形成有与所述喷口相通的、贯穿所述本体设置的第一通孔。
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