[实用新型]一种腔室密封结构的半导体加工设备有效
申请号: | 201721193175.4 | 申请日: | 2017-09-18 |
公开(公告)号: | CN207503919U | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 吴燕发 | 申请(专利权)人: | 南安市品龙新材料科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362300 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种腔室密封结构的半导体加工设备,其结构包括传输带、支撑面板、支撑架、电机箱、加工器、数控面板、指示灯、圆棍封密装置,所述传输带为长方体结构,切面为长方形长为7‑8cm,所述传输带左侧底端与旋转轴承采用间隙配合方式活动连接,本实用新型一种腔室密封结构的半导体加工设备,设有圆棍封密装置,通过紧固器紧固设备,传动盒与传动杆进行传动,使得转轴与滚轮旋转加强对设备的封密性,解决了设备封密产品时封密性不足的问题,避免了产品生产出来会渗入湿气产生水分导致无法使用。 1 | ||
搜索关键词: | 半导体加工设备 密封结构 传输带 种腔室 本实用新型 封密性 圆棍 指示灯 切面 湿气 间隙配合方式 长方体结构 产品生产 活动连接 紧固设备 数控面板 旋转轴承 支撑面板 传动杆 传动盒 电机箱 对设备 加工器 紧固器 支撑架 传动 底端 滚轮 转轴 渗入 | ||
所述传输带(1)左侧底端与旋转轴承采用间隙配合方式活动连接,所述支撑面板(2)为长方体结构,切面为长方形长为8‑9cm,共设有2块,所述支撑架(3)上端为圆柱体结构,底端为圆盘状结构,上下端焊接为一体化结构,所述电机箱(4)为中空式长方体结构,切面为长方形长为5‑6cm,上端与支撑面板(2)底端采用过盈配合方式活动连接,所述加工器(5)为长方体结构,切面为长方形长为4‑5cm,底端与支撑面板(2)采用过盈配合方式活动连接,所述数控面板(6)高为5‑6cm,底端与支撑面板(2)采用过渡配合方式活动连接,所述指示灯(7)为圆柱体结构,切面为长方形长为4cm,截面为圆形半径为1cm,底端与封盖采用过盈配合方式活动连接,所述圆棍封密装置(8)为圆柱体结构,切面为长方形长为4cm,截面为圆形半径为0.8cm,设在封盖内部,且两端与封盖采用间隙配合方式活动连接;
所述圆棍封密装置(8)由紧固器(801)、面板(802)、转轴(803)、传动盒(804)、传动杆(805)、滚轮(806)组成,所述紧固器(801)为圆柱体结构,切面为长方形长为2cm,底端贯穿支撑柱与面板(802)采用过盈配合方式活动连接,所述面板(802)为长方体结构,切面为长方形长为5‑6cm,厚度为2cm,所述转轴(803)圆形结构,切面为长方形长为2cm,右侧与传动杆(805)采用过盈配合方式活动连接,所述传动杆(805)切面为长方形长为3cm,底端右侧与传动盒(804)采用过盈配合方式活动连接,所述传动盒(804)为长方体结构,切面为长方形长为4cm,底端与面板采用过盈配合方式活动连接,所述滚轮(806)为圆柱体结构,切面为长方形长为4‑5cm,截面为圆形半径为2cm,两端与支撑板采用间隙配合方式活动连接。
2.根据权利要求1所述的一种腔室密封结构的半导体加工设备,其特征在于:所述传输带(1)左侧与旋转轴承相互旋转采用间隙配合方式活动连接。3.根据权利要求1所述的一种腔室密封结构的半导体加工设备,其特征在于:所述支撑面板(2)共设有2个,对称平行相隔4cm。4.根据权利要求1所述的一种腔室密封结构的半导体加工设备,其特征在于:所述支撑架(3)上端贯穿电机箱(4)通过螺丝采用过盈配合方式活动连接。5.根据权利要求1所述的一种腔室密封结构的半导体加工设备,其特征在于:所述电机箱(4)底端四角设有半径为0.2cm的圆形通口。6.根据权利要求1所述的一种腔室密封结构的半导体加工设备,其特征在于:所述加工器(5)底端与支撑面板(2)采用过盈配合方式活动连接。该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南安市品龙新材料科技有限公司,未经南安市品龙新材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721193175.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:LED固晶机自动加胶装置
- 下一篇:一种用于太阳能硅片的柔式清洗机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造