[实用新型]一种晶圆片清洗装置有效

专利信息
申请号: 201721240063.X 申请日: 2017-09-26
公开(公告)号: CN207338322U 公开(公告)日: 2018-05-08
发明(设计)人: 吴琼;李永峰 申请(专利权)人: 福建兆元光电有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公开了一种晶圆片清洗装置,包括清洗槽,所述清洗槽内底部竖直设有一根转轴;所述转轴通过设于清洗槽内的电机驱动旋转;所述转轴的上部轴壁上阵列排布有若干夹持臂;所述夹持臂包括水平固定连接在转轴轴壁上的滑轨;所述滑轨远离转轴的一端上部固定连接有一个固定块;所述固定块的上表面具有一个圆弧槽一;所述滑轨上还滑动块连接有一个滑块;所述滑块的上表面具有一个与圆弧槽一相对的圆弧槽二;所述滑块靠近转轴一端的端面通过弹簧一连接在转轴上,且所述弹簧一套设于滑轨上;本实用新型结构合理,采用机械清洗的方式,可以对晶圆片进行边冲洗,边清刷;而且一次能够清洁多片晶圆片。
搜索关键词: 一种 晶圆片 清洗 装置
【主权项】:
1.一种晶圆片清洗装置,包括清洗槽(1),其特征在于:所述清洗槽(1)内底部竖直设有一根转轴(3);所述转轴(3)通过设于清洗槽(1)内的电机(2)驱动旋转;所述转轴(3)的上部轴壁上阵列排布有若干夹持臂(4);所述夹持臂(4)包括水平固定连接在转轴(3)轴壁上的滑轨(401);所述滑轨(401)远离转轴(3)的一端上部固定连接有一个固定块(402);所述固定块(402)的上表面具有一个圆弧槽一(403);所述滑轨(401)上还滑动块连接有一个滑块(404);所述滑块(404)的上表面具有一个与圆弧槽一(403)相对的圆弧槽二(405);所述滑块(404)靠近转轴(3)一端的端面通过弹簧一(406)连接在转轴(3)上,且所述弹簧一(406)套设于滑轨(401)上;所述清洗槽(1)的一侧内壁上设有一个水平设置的安装板(5);所述安装板(5)下部设有一个刷毛朝下的毛刷(6);所述清洗槽(1)另一侧内壁上设有一根竖直设置且位于固定块(402)上方的喷水管(7),其中所述喷水管(7)位于清洗槽(1)内的一端封闭且下管壁上具有若干出水孔(8);所述喷水管(7)的进水端通过连接管(9)连接有水泵(10);所述水泵(10)与水箱(11)连接。
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