[实用新型]等离子体焰炬消除装置有效

专利信息
申请号: 201721240822.2 申请日: 2017-09-26
公开(公告)号: CN207868157U 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: S.马尼;崔奫修;高燦奎;M.J.阿特伍德 申请(专利权)人: 爱德华兹韩国有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜凝;谭祐祥
地址: 韩国忠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 实用新型涉及等离子体焰炬消除装置。公开了一种等离子体焰炬消除装置和制造的方法。等离子体焰炬消除装置用于用等离子体流处理来自加工工具的排出流,且包括:由反应腔室壁限定的反应腔室,其用于接收排出流和等离子体流,反应腔室壁包括复合结构,其具有面向排出流和等离子体流的钝化层,所述钝化层由钝化材料形成,所述复合结构具有环绕钝化层的由基底材料形成的基底层,相比于基底材料,所述钝化材料对排出流和等离子体流的化学反应性更弱。以这种方式,提供复合或多层反应腔室,其具有由基底层和钝化层两者提供的有利性质,并且钝化层对排出流和等离子体流抵抗性更强,其改善了反应腔室的寿命。
搜索关键词: 等离子体流 钝化层 排出 等离子体焰炬 消除装置 反应腔室 反应腔室壁 钝化材料 复合结构 基底材料 基底层 本实用新型 化学反应性 加工工具 抵抗性 多层 环绕 复合 制造
【主权项】:
1.一种用于用等离子体流处理来自加工工具的排出流的等离子体焰炬消除装置,包括:由反应腔室壁限定的反应腔室,其用于接收所述排出流和所述等离子体流,所述反应腔室壁包括复合结构,所述复合结构具有面向所述排出流和所述等离子体流的钝化层,所述钝化层由钝化材料形成,所述复合结构具有环绕所述钝化层的由包括高铝质浇注水泥的基底材料形成的基底层,相比于所述基底材料,所述钝化材料对所述排出流和所述等离子体流的化学反应性更弱。
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