[实用新型]一种光刻机用分区控制真空吸盘有效

专利信息
申请号: 201721248211.2 申请日: 2017-09-26
公开(公告)号: CN207301626U 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 李朋朋;宋舒婷;雷冬;彭罗汉 申请(专利权)人: 武汉光谷量子技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙)42225 代理人: 沈林华
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种光刻机用分区控制真空吸盘,涉及光刻机的真空吸盘领域。该真空吸盘包括吸盘本体、真空发生器、管路、若干电磁阀,吸盘本体的横截面为圆形,以横截面的中点为共同圆心,吸盘本体按照若干同心圆分区控制正中间的最小圆形区域为一个区域,沿半径每往外一环的环形区域各形成一个区域,每个区域开有多个气孔,气孔下方为真空环,该区域形成真空区;所有真空区共用一台真空发生器,每个真空区的管路设有一个电磁阀,控制该真空区吸气口的开闭。通过控制进行真空吸附的环形区域的数量,控制真空吸附区的大小。本实用新型能合理利用资源,有效吸附不同尺寸的Ⅲ‑Ⅴ化合物半导体圆片。
搜索关键词: 一种 光刻 分区 控制 真空 吸盘
【主权项】:
一种光刻机用分区控制真空吸盘,该真空吸盘包括吸盘本体(1)、真空发生器、管路,其特征在于:该真空吸盘还包括若干电磁阀,所述吸盘本体(1)的横截面为圆形,以横截面的中点为共同圆心,在横截面上规划若干同心圆,吸盘本体(1)按照横截面上规划的若干同心圆进行分区控制:正中间的最小圆形区域为一个区域,沿横截面的半径方向每往外一环的环形区域各自形成一个区域,每个区域开有多个气孔(2),气孔(2)下方为真空环,该区域形成真空区;所有真空区共用一台真空发生器,各真空区的吸气口均通过管路与真空发生器相连,每个真空区的管路设置有一个电磁阀,来控制该真空区吸气口的开闭,通过控制进行真空吸附的环形区域的数量,控制真空吸附区的大小。
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