[实用新型]一种改善low-k薄膜均一性的装置

摘要

本实用新型提供了一种改善low‑k薄膜均一性的装置，包括反应室和狭缝阀，还包括一狭缝插块，所述狭缝插块设置有：一圆弧形块，所述圆弧形块与反应室相接面为圆弧形；一滑动块，所述滑动块与圆弧形块的底面连接，所述滑动块底部设左右两滑槽；两直线导轨，所述直线导轨与滑槽适配连接；一步进电机，与所述直线导轨一端连接；两竖直伸缩杆，所述竖直伸缩杆与所述直线导轨的底端连接。本实用新型通过设计优化反应室结构，从而降低了low‑k工艺的薄膜均匀性问题，提高了薄膜稳定性。所以在producer机台的狭缝阀及反应室中，加入狭缝插块，改善空间结构，使工艺较为平稳。

主权项

1.一种改善low‑k薄膜均一性的装置，包括反应室(1)和狭缝阀(2)，其特征在于：还包括一狭缝插块(3)，所述狭缝插块(3)设置有：一圆弧形块(31)，所述圆弧形块(31)与反应室(1)相对的面为圆弧形；一滑动块(32)，所述滑动块(32)与圆弧形块(31)的底面连接，所述滑动块(32)底部设置左右两滑槽(33)；两直线导轨(34)，所述直线导轨(34)与滑槽(33)适配连接；一步进电机(35)，与所述直线导轨(34)一端连接；两竖直伸缩杆(36)，所述竖直伸缩杆(36)与所述直线导轨(34)的底端连接。