[实用新型]掩膜版及夹具模组有效
| 申请号： | 201721258638.0 | 申请日： | 2017-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN207216268U | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 吕文旭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/72 | 分类号： | G03F1/72;G03F1/76 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静,刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种掩膜版及夹具模组。该掩膜版包括呈面状形式的掩膜版本体，包括相对设置的两个夹持组，每一夹持组中包括至少两个夹持部，且其中的两个夹持部朝不同方向延伸。所述掩膜版通过在相对的侧边边缘分别设置至少两个朝不同方向延伸的夹持部，使得夹持部形成为夹持拉力所施加方向的引导，当采用夹具沿每一夹持部的延伸方向施加拉力时，掩膜版本体所接受拉力可以朝向不同方向，拉力可以被分解为相互垂直的两个方向，不但能够改善掩膜版本体的延展性，而且能够避免掩膜版本体的褶皱产生。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 夹具 模组 | ||
【主权项】：
一种掩膜版，其特征在于，包括：呈面状形式的掩膜版本体，包括相对设置的两个夹持组，每一夹持组中包括至少两个夹持部，且其中的两个夹持部朝不同方向延伸。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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