[实用新型]一种分散进液的进液结构及具有该结构的刻蚀装置有效
申请号: | 201721261502.5 | 申请日: | 2017-09-28 |
公开(公告)号: | CN207818528U | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 李伟 | 申请(专利权)人: | 北京创昱科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 102209 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及光伏和半导体生产设备技术领域,尤其涉及一种分散进液的进液结构及具有该结构的刻蚀装置。本实用新型的分散进液的进液结构包括反应槽、固定架、进液口和分液板,固定架固定在反应槽内,且用于固定待处理的产品,反应槽上设有进液口,分液板设置在进液口与固定架之间,由进液口进入反应槽内的液体、通过分液板均匀分流,从而既能将进入反应槽的液体均匀的打散分流,又能保证进液的均匀性,有效保护待加工的产品,防止其由于在后进入反应槽内的液体流速过快、流量过大、或流速不均,而使产品受到直接冲击,从而避免产品的质量受到影响,同时还能减少产品的破碎率,有效减少工艺过程中产品的浪费。 | ||
搜索关键词: | 反应槽 进液口 进液 进液结构 分液板 固定架 本实用新型 刻蚀装置 半导体生产设备 工艺过程 均匀分流 液体流速 有效减少 均匀性 破碎率 打散 光伏 分流 加工 保证 | ||
【主权项】:
1.一种分散进液的进液结构,其特征在于,包括反应槽、固定架、进液口和分液板,所述固定架固定在反应槽内,且用于固定待处理的产品,所述反应槽上设有进液口,所述分液板设置在所述进液口与固定架之间,由所述进液口进入反应槽内的液体、通过所述分液板均匀分流。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造