[实用新型]刻蚀下料新型导向机构有效

专利信息
申请号: 201721273685.2 申请日: 2017-09-29
公开(公告)号: CN207425827U 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 李平 申请(专利权)人: 四川英发太阳能科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L31/18
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 胡晓丽
地址: 610000 四川省成都市中国(四川)自*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了刻蚀下料新型导向机构,包括机架,所述机架上均匀分布设有传送架,所述传送架上设有传送带,所述传送架沿传送带传送方向两外侧壁上对称设有导向条,所述导向条的长轴方向与传送带的传送方向平行;所述传送带用于传送硅片,所述硅片的底部同时与传送带两侧的导向条摩擦接触,且导向条与硅片的接触面积沿传送方向逐渐增大。本实用新型采用安装于传送带两侧的导向条进行导向,可有效防止破片问题,避免发生大规模卡片事故。
搜索关键词: 传送带 导向条 传送架 硅片 本实用新型 传送方向 新型导向 刻蚀 下料 传送带传送方向 摩擦接触 逐渐增大 外侧壁 长轴 破片 平行 对称 卡片 传送
【主权项】:
1.刻蚀下料新型导向机构,包括机架(1),所述机架(1)上均匀分布设有传送架(2),所述传送架(2)上设有传送带(3),其特征在于,所述传送架(2)沿传送带(3)传送方向两外侧壁上对称设有导向条(4),所述导向条(4)的长轴方向与传送带(3)的传送方向平行;所述传送带(3)用于传送硅片(5),所述硅片(5)的底部同时与传送带(3)两侧的导向条(4)摩擦接触,且导向条(4)与硅片(5)的接触面积沿传送方向逐渐增大。
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