[实用新型]电极结构和真空等离子设备有效
| 申请号： | 201721275750.5 | 申请日： | 2017-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN207425792U | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 孙溯;张志强;谢小兵 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人： | 何静生;侯莉 |
| 地址： | 200241 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及等离子体气相沉积技术领域，公开了一种电极结构以及应用了该种电极结构的真空等离子设备，电极结构包括：N个电极板，N为大于等于2的自然数；N‑1个样品；样品与电极板依次交替地间隔设置；各电极板之间的电位相同；电极板与样品之间存在电势差。根据本实用新型的电极结构所制造的真空等离子设备，能够使得等离子体气相沉积在相近的电场环境下进行，确保沉积形成的薄膜尽量均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 电极结构 电极板 真空等离子 等离子体气相沉积 本实用新型 电位 电场环境 间隔设置 电势差 薄膜 沉积 应用 制造 | ||
【主权项】：
1.一种电极结构，包括：N个电极板(2)，所述N为大于等于2的自然数；N-1个样品(3)；所述样品(3)与所述电极板(2)依次交替地间隔设置；其特征在于，所述各电极板(2)之间的电位相同；所述电极板(2)与所述样品(3)之间存在电势差。
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